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  • 2018-11-08

    磁控溅射靶材的种类介绍

         磁控溅射一般分为二种：直流溅射和射频溅射，其中直流溅射设备原理简单，在溅射金属时，其速率也快。而射频溅射的使用范围更为广泛，除可溅射导电材料外，也可溅射非导电的材料，溅射靶材...

  • 2018-11-08

    讲解溅射靶材中频磁控溅射的知识

    　　中频溅射的原理跟一般的直流溅射是相同的,不同的是直流溅射把筒体当阳极,而中频溅射是成对的,筒体是否参加必须视整体设计而定,与整个系统溅射过程中,阳极阴极的安排有关,参与的比率周期有很...

  • 2018-11-08

    磁控溅射靶材行业的发展规律

           磁控溅射设备一般根据所采用的电源的不同又可分为直流溅射和射频溅射两种。直流磁控溅射的特点是在阳极基片和阴极靶之间加一个直流电压，阳离子在电场的作用下轰击靶...

  • 2018-11-08

    溅射靶材的应用领域

          信息存储产业：随着IT 产业的不断发展,世界对记录介质的需 求量越来越大,记录介质用靶材研究与生产成为一大热点。在信息存储产业中,使用溅射靶材制备的 相关薄膜产品有硬盘...

  • 2018-11-08

    溅射靶材磁控溅射原理

          在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气)，永久磁铁在靶材料表面形成250～350高斯的磁场，同高压电场组成正交电磁场...

  • 2018-11-08

    我国ITO靶材行业的发展情况

         ITO靶材的生产工艺可以分为3种：热等静压法(HIP)、溅射靶材热压法(HP)和气氛烧结法。各种生产工艺及其特点简介如下。　　热等静压法：ITO靶材的热等静压制作过程是将粉末或预先...

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