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  • 2018-11-08

    磁控溅射靶材行业的发展规律

           磁控溅射设备一般根据所采用的电源的不同又可分为直流溅射和射频溅射两种。直流磁控溅射的特点是在阳极基片和阴极靶之间加一个直流电压,阳离子在电场的作用下轰击靶...

  • 2018-11-08

    溅射靶材的应用领域

          信息存储产业:随着IT 产业的不断发展,世界对记录介质的需 求量越来越大,记录介质用靶材研究与生产成为一大热点。在信息存储产业中,使用溅射靶材制备的 相关薄膜产品有硬盘...

  • 2018-11-08

    溅射靶材磁控溅射原理

          在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场,在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气),永久磁铁在靶材料表面形成250~350高斯的磁场,同高压电场组成正交电磁场...

  • 2018-11-08

    我国ITO靶材行业的发展情况

         ITO靶材的生产工艺可以分为3种:热等静压法(HIP)、溅射靶材热压法(HP)和气氛烧结法。各种生产工艺及其特点简介如下。  热等静压法:ITO靶材的热等静压制作过程是将粉末或预先...

  • 2018-11-08

    未来ITO靶材发展趋势

        1.降低电阻率。随着LCD愈来愈精细化发展的趋向,以及它的驱动程序不同,需要更小电阻率的透明导电膜。  2.高密度化。靶材密度的改善直接带来的益处主要表现在减少黑化和降低电阻率...

  • 2018-11-08

    靶材的主要性能要求介绍

          纯度:纯度是靶材的主要性能指标之一,因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中,对靶材的纯度要求也不尽相同。例如,随着微电子行业的迅速发展,硅片尺寸由6”, 8“...

  • 2018-11-08

    靶材溅射完后半边中毒发乌问题分析

        原因分析1:可能与射频电源的引入有关  原因分析2:这么小的靶,两英寸?冷却均匀么  原因分析3:这么小的靶还加300W的功率,冷却跟得上吗?怀疑是冷却不好,造成半边发乌!  原因分析4:冷...

  • 2018-11-08

    溅射靶材射频的频率提高后

        在电场的作用下,Ar气电离成正离子和电子,靶上加有一定的负高压,从靶极发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率增大,在阴极附近形成高密度的等离子体,Ar离子在洛仑兹力的作用下加...

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